低總有機(jī)碳（TOC）測(cè)定的試管準(zhǔn)備準(zhǔn)則-華普通用

建議的美國(guó)藥典USP23要求，對(duì)于純化水（PW）和注射用水（WFI），應(yīng)使用總有機(jī)碳含量（TOC）測(cè)定替代當(dāng)前的易氧化物測(cè)試。為支持使用自動(dòng)進(jìn) 樣器在實(shí)驗(yàn)室測(cè)量TOC的建議要求，最小化并去除來(lái)自試管及樣品準(zhǔn)備過(guò)程的背景碳，是非常關(guān)鍵的。

適用范圍

      本文設(shè)計(jì)用于協(xié)助制藥公司遵循水質(zhì)量的建議規(guī)格。本文檢驗(yàn)了幾種不同的試管和玻璃器皿清洗方法。

      在試管中進(jìn)行總碳分析時(shí)，背景污染可有多種不同的來(lái)源。最大的潛在背景碳含量來(lái)源之一，可以直接來(lái)自用于試管漂洗和樣品制備的水源。為了進(jìn)行此測(cè)定，可使用諸如本研究所用的Sievers* 800型 等在線(xiàn)TOC分析儀直接測(cè)量水源中的總有機(jī)碳（TOC）含量。如果水源是商品瓶裝水，則應(yīng)從容器直接取樣進(jìn)行該分析。如果水源為實(shí)驗(yàn)室水系統(tǒng)，充注1升干凈的玻璃燒瓶并從該燒瓶取樣進(jìn)行分析。表1顯示了使用這些技術(shù)在Sievers分析儀得到的結(jié)果。

當(dāng)水轉(zhuǎn)移到燒瓶和試管內(nèi)時(shí)很容易被污染，正如以上所示，Sievers分析儀的水轉(zhuǎn)移到燒瓶中的TOC含 量更高。如果可能的話(huà)，檢驗(yàn)所選水源類(lèi)型，以顯示其具有穩(wěn)定的低TOC。

      污染的第二個(gè)主要來(lái)源可來(lái)自試管和清洗步驟。為了測(cè)定TOC背景污染的初始程度，請(qǐng)使用強(qiáng)烈的清 洗步驟。在科學(xué)界廣泛使用的清洗實(shí)驗(yàn)室玻璃器皿的方法是鉻酸溶液（Sievers分析儀技術(shù)方案914- 80005），已經(jīng)被從美國(guó)藥典的實(shí)驗(yàn)室玻璃器皿清 洗<1051>章中去除。使用該步驟清洗的試管和其他 玻璃器皿將獲得較低的TOC背景污染。在獲得較低 的背景污染之后，需要慎重檢驗(yàn)更溫和的清洗步驟 以獲得同樣的結(jié)果。這里所檢驗(yàn)的腐蝕性最小的化 學(xué)清洗步驟是CIP-100洗滌劑。作為清洗劑的替代 方案，可使用馬弗爐清洗玻璃器皿。馬弗爐工藝需 要的人工更少，但初始設(shè)備成本巨大。如表所示， 硫酸清洗、馬弗爐和CIP-100洗滌劑清洗過(guò)程與鉻 酸清洗過(guò)程的結(jié)果相當(dāng)。CIP-100洗滌劑的一個(gè)優(yōu) 點(diǎn)是只需要10次漂洗，而與之相比，其他清洗劑需 要15或20次漂洗。Alconox實(shí)驗(yàn)室洗滌劑不建議作為低TOC工作的清洗劑。

      當(dāng)表中所使用的試管，加入足夠的苯醇醚（Octoxynol）（Triton X-100），形成當(dāng)充滿(mǎn)去離子水時(shí)50 ppm（以碳計(jì)）的溶液，這時(shí)的清洗是有 挑戰(zhàn)性的。使這些標(biāo)準(zhǔn)添加溶液在各試管中干燥， 然后進(jìn)行各種清洗步驟。

      當(dāng)細(xì)菌污染成為問(wèn)題時(shí)，微生物群落存在類(lèi)似的情 況。在這里開(kāi)發(fā)了無(wú)菌化技術(shù)，以應(yīng)對(duì)微生物工作 中遇到的交叉污染問(wèn)題。 此概念可部分適用于碳樣品的制備。

例如，適合碳樣品制備的無(wú)菌化概念為：

1) 避免直接觸摸墊片、移液管、自動(dòng)取樣器針和其他與樣品直接接觸的設(shè)備，

2) 制備樣品時(shí)時(shí)避免對(duì)著它們呼吸，

3) 避免采集前幾毫升的樣品流，采集樣品前等待，直到一些體積經(jīng)過(guò)并凈化管道

4) 當(dāng)將試管載入自動(dòng)取樣器時(shí)避免接觸覆蓋試管的隔膜。

      第二種意見(jiàn)是僅使用新試管進(jìn)行 TOC 分析。這種做法費(fèi)錢(qián)費(fèi)力，因?yàn)檫@些新試管需要進(jìn)行15 次漂洗的準(zhǔn)備步驟。使用此方法獲得的 TOC 值列在表中。

      而另一種方法是購(gòu)買(mǎi)制造商預(yù)清洗的試管。然而此 處列出的試管，供應(yīng)商沒(méi)有直接測(cè)試其 TOC，而是 測(cè)試其揮發(fā)性有機(jī)化合物。因此，沒(méi)有保證其最大 TOC 含量。這些預(yù)清洗的試管充注 Sievers 低有機(jī) 物去離子水，并在儀器上進(jìn)行分析。結(jié)果如圖 4 所 示。  

      減小背景碳污染的第三步是遵守嚴(yán)格的制備技術(shù)。 特別小心地處理與樣品接觸的試劑和設(shè)備，因?yàn)樘?污染無(wú)處不在。

    例如，儲(chǔ)存在塑料袋中的墊片，如果手伸入內(nèi)部時(shí)， 可能受到殘留的手紋油的污染。表 5 顯示了使用故意被手紋直接污染的隔膜時(shí)更高的 TOC 含量。右列 顯示了在樣品制備時(shí)上下表面皆有觸摸的隔膜。碳污染量是樣品制備時(shí)與臟手或表面接觸程度的反映。

結(jié)論

在樣品制備的三個(gè)方面敘述了背景碳的潛在原因。要在低碳背景污染下獲得穩(wěn)定的 TOC 結(jié)果， 水、試管和樣品制備方法都必須仔細(xì)地監(jiān)控。